Fluxo de processo do equipamento ultrapure da água para a limpeza do semicondutor

Nos últimos anos, a ciência de China e o desenvolvimento rápido da tecnologia, a indústria eletrónica esclarecem a parte principal, na indústria eletrónica, semicondutores igualmente ocupam uma posição importante, o semicondutor que limpa a qualidade ultrapure da efluência do equipamento da água é estável e a operação do equipamento é segura.

Descrição de processo do equipamento ultrapure da água para a limpeza do semicondutor

A qualidade de água da água ultrapure para a limpeza do semicondutor deve igualmente ter exigências restritas, e o equipamento pode operar-se estavelmente. A água crua é pressurizada pela bomba de água crua, de modo que a água incorpore o sistema preliminar do pré-tratamento para remover a oxidação e outras substâncias orgânicas na água, a seguir entra no equipamento secundário do pré-tratamento para remover alguma cor do cloro residual, e então após a terceira fase do pré-tratamento, para remover a dureza da água, o filtro de segurança refina a água outra vez, e passa então a osmose reversa e o EDI para remover as impurezas adicionais na água, e as passagens através do filtro microporous para tratar finalmente mais a água. Faça a água cumprem as exigências da água.

O padrão para a água ultrapure na indústria do semicondutor

A indústria do semicondutor deve seguir os padrões relevantes da indústria eletrónica de China, e igualmente encontrar alguns padrões de qualidade estrangeiros da água. Presentemente, muitos fabricantes do tratamento da água não encontraram os padrões, e a qualidade da efluência de nosso equipamento ultrapure da água pode encontrar estes padrões, e a qualidade de água é estável, e não causará a poluição secundária.

O equipamento Ultrapure da água para a limpeza do semicondutor adota a tecnologia a mais atrasada, que pode realizar as características de desacompanhado, o equipamento ocupa uma área pequena, o grau de automatização é alto, e a qualidade de água é estável, o trilhão até 18,2, e a taxa de recuperação das águas residuais de equipamento ultrapure da água é alta, até 80% a mais de 90%.